http://uv-curing-pro.com/uk/tags/%D0%BA%D0%B0%D0%BC%D1%96%D0%BD%D1%8C/ Recent content in Камінь on UV Curing Pro Hugo uk Fri, 26 Jun 2026 09:45:15 +0800 http://uv-curing-pro.com/uk/posts/uv-curing-lamp-for-marble-stone/ Fri, 26 Jun 2026 09:45:15 +0800 http://uv-curing-pro.com/uk/posts/uv-curing-lamp-for-marble-stone/ <p><img src="http://uv-curing-pro.com/images/c794c163e6a1433bb27962cb0d823c70.png" alt="Лампа для вулканізації під ультрафіолетовим світлом для мармуру"></p> <p>На лініях обробки мармуру, де постійно є багато пилу, стандартна УФ-лампа не лише втрачає свою ефективність, але й швидко вимикається. Пил покриває рефлектор, що призводить до зниження спектральної інтенсивності та зниження ефективності нагрівання саме у той момент, коли це найбільш необхідно. Результатом є недоготовлена смола, липка поверхня та купа відходів. Ми створили УФ-лампу з повністю закритим рефлектором, яка може функціонувати в таких умовах.</p> <p><strong>Що насправді має значення під час УФ-в’ялення</strong> УФ-в’ялення – це процес фотохімії, а не просто нагрівання. Спектральна інтенсивність випромінювання лампи повинна відповідати характеристикам фотоініціаторів, які використовуються в складі коштів для обробки поверхні. Для багатьох систем обробки кам’яних поверхонь оптимальною довжиною хвилі є 365 нм – це забезпечує найвищу ефективність випромінювання. Якщо ж потрібен більший проникнення вглиб поверхні та менше напруги на поверхні, то краще використовувати довжину хвилі 385 нм. Максимальна інтенсивність випромінювання на поверхні визначає швидкість крос-зв’язування молекул; щільність енергії (мДж/см²) впливає на повноту в’ялення. Наша лампа забезпечує інтенсивність випромінювання, яка перевищує необхідний поріг для швидкого крос-зв’язування. Рефлектор має дихроїчне покриття, яке забезпечує точну спектральну селективність та ефективне передавання енергії.</p>