<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Гераеус on UV Curing Pro</title>
		<link>http://uv-curing-pro.com/ru/tags/%D0%B3%D0%B5%D1%80%D0%B0%D0%B5%D1%83%D1%81/</link>
		<description>Recent content in Гераеус on UV Curing Pro</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 03 Jun 2026 05:33:36 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-pro.com/ru/tags/%D0%B3%D0%B5%D1%80%D0%B0%D0%B5%D1%83%D1%81/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Замена УФ лампы для Heraeus</title>
				<link>http://uv-curing-pro.com/ru/posts/replacement-uv-lamp-for-heraeus/</link>
				<pubDate>Wed, 03 Jun 2026 05:33:36 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-pro.com/ru/posts/replacement-uv-lamp-for-heraeus/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-pro.com/images/b2e443d44e8aa49e3e4d2f698d9d50a7.jpg&#34; alt=&#34;Замена УФ лампы для Heraeus&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На участке трафаретной печати «моментальная сушка» — это не рекламный слоган, а скорость линии, которую необходимо поддерживать. Если УФ-лампа не выходит на полную спектральную мощность за считанные секунды, конвейер останавливается. Краска размазывается, количество брака растёт, а блок сушки становится узким местом. Замена УФ-лампы для систем &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;Heraeus&lt;/a&gt; разработана с учётом этой реальности, обеспечивая быстрый отклик и стабильную освещённость, необходимые для бесперебойного производства.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что важно технически&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Эта ртутная лампа сфокусирована на пике длины волны 365 нм, соответствующем профилю поглощения стандартных УФ-фотоинициаторов в трафаретных красках. При стабильной спектральной мощности процесс сшивки остаётся воспроизводимым из партии в партию. Пиковая освещённость сохраняется в зоне отверждения, а лампа обеспечивает постоянную плотность мощности — измеренную на плоскости подложки — что позволяет одновременно получить отверждение поверхности и глубины. Отражатель покрыт дихроическим слоем, который направляет больше полезного УФ-излучения на подложку, уменьшая при этом инфракрасную нагрузку.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
